Plasma 1500(ICP-OES) 電感耦合等離子體光譜儀
產品型號:Plasma 1500(ICP-OES)
參考價格:-
產地:江蘇
發(fā)布時間:2025-3-10 16:36:13
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產品介紹:
1、產品介紹
鋼研納克擁有35年電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀方法開發(fā)經驗
數十項ICP-OES檢測標準的起草單位
電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀產品標準GB/T36244-2018起草單位
Plasma 1500作為擁有更高分辨率的順序掃描型電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,能夠為復雜樣品提供可靠分析解決方案
不僅滿足環(huán)境、食品和農業(yè)等日常分析的穩(wěn)健型需求,也能滿足高鹽、有機和多重光譜干擾等復雜樣品的高性能需求,面對鎢、鉬、金、銀、鉑和稀土金屬等復雜基體材料,Plasma 1500也能做到準確分析。
2、儀器參數
Plasma1500采用穩(wěn)定的全固態(tài)射頻發(fā)生器,摒棄低效率的電子管時代,匹配速度快,確保儀器長期穩(wěn)定運行。
輸出功率:500W-1600W連續(xù)1W可調
功率穩(wěn)定性:≤0.1%
頻率穩(wěn)定性:≤0.01%
匹配方式:自動匹配
電磁場泄露輻射強度:<0.5V/m
進樣系統技術參數:
炬管方向:垂直放置
炬管:一體式炬管,中心管可選0.8mm、1.5mm、2.0mm(石英或陶瓷)
霧化器:同心霧化器或平行通道霧化器,外徑6mm,可選標準霧化器、高鹽霧化器、氫氟酸霧化器。
霧室:旋流霧化室,可選配雙筒型霧化室和耐HF霧化室。
蠕動泵:4通道12滾輪,轉速連續(xù)可調
光學系統參數:
光柵刻線(選配):2400g/mm、3600g/mm、4320g/mm、雙光柵(4320g/mm+2400g/mm)
分析譜線范圍:165nm-800nm 2400g/mm、165nm-550nm 3600g/mm、165nm-450nm 4320g/mm
焦距:1000mm
光室恒溫:高精度恒溫35℃±0.1℃
分辨率:
≤0.012nm 2400g/mm
≤0.008nm 3600g/mm
≤0.006nm 4320g/mm
檢測器技術參數:
檢測器:高靈敏度PMT檢測器
分析性能:
觀測方式:垂直火炬
檢出限:亞ppb- ppb
短期穩(wěn)定性:RSD≤0.75%(500 X LOD)
長期穩(wěn)定性:RSD≤1.25%(500 X LOD)
儀器規(guī)格
尺寸:寬x深x高(159cm x 65cm x 75cm)
重量:180kg
工作環(huán)境
實驗室濕度環(huán)境:相對濕度20%~80%
氬氣純度:不小于99.995%
排風:不小于400立方米/小時
電源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA
3、儀器優(yōu)勢與特點
大面積高刻線密度平面全息光柵,1000mm焦距Czerny-Turner 結構高質量光學系統,光通量大,分辨率高。
雙光柵、雙濾光片設計,配合雙通道高靈敏 PMT 檢測器,獨特的動態(tài)范圍信號處理技術,使整個波長分布范圍內均具有恒定的高分辨率。
紫外光譜范圍內自動切換使用紫外專用 PMT,在深紫外光譜范圍依然保持高的靈敏度,提供多譜線選擇的可能。
穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的穩(wěn)定運行。
功能強大的軟件系統,簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。
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- 主營行業(yè): 粉末冶金檢測儀器
- 經營性質:請在下列表中選擇
- 地區(qū):江蘇
- 友情鏈接:粉末冶金